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更新時間:2023-02-16  |  訪問量:5316

深度解讀 |常見的腦電設備

目錄
01早期聽覺感覺反應ERP成分
02早期視覺感覺反應ERP成分
03選擇性注意N2家族ERP成分
04認知決策分配P3家族ERP成分
05決策-反應相關的ERP成分
06語言加工相關的ERP成分

事件相關電位(event-related potential, ERP)是一種特殊的腦誘發電位,通過有意地賦予刺激以特殊的心理意義,利用多個或多樣的刺激所引起的腦的電位。提供的是關于腦的高級功能的信息,多與認知過程相關。而且在50-400ms 范圍內波的時間特性在正常人中較恒定,提示其診斷及預測價值較高。

EEG/ERPs是認知神經科學經常使用的研究手段之一。采用事件相關電位技術對意識障礙患者進行評估具有以下優點:ERP是刺激事件引起的實時腦電波,在時間精度可達到微秒級。比較高的時間分辨率是ERP的主要優勢,ERP也可以和行為數據,特別是反應時間(RT)很好地配合,以研究認知加工過程的規律。

01
早期聽覺感覺反應ERP成分
01 P50

聽覺ERP早期成分主要包括腦干誘發電位(BAEP)、中潛伏期反應(MLR)和之后的P50、N1等。P50是在MLR之后在頂區產生的一個幅值較小但穩定的正成分,通常不受情緒和認知因素影響,峰值潛伏期在50ms左右。

通常采用配對刺激或訓練-刺激范式誘發,主要用于研究中樞神經系統的感覺門控系統。實驗中給予一對相同的聽覺刺激(S1和S2),每個刺激之后大約50ms都會出現P50,但是S2引起的P50幅值通常顯著小于S1,這就是“P50抑制"。通常用P50差異(S2/S1)來量化抑制程度,比率越大,代表S2和S1誘發的P50差異越小,感覺門控越弱;比率越小,代表S2和S1誘發的P50差異越大,感覺門控越強。這種門控機制反映了大腦對信息過載的抑制機制,可以用來評估特殊群體的感覺門控抑制能力。

圖2: 聽覺P50的抑制作用
02 N1

N1成分是聽覺刺激出現后,在80-120ms達到峰值的一種負誘發成分,一般可在全腦區記錄到,但往往其波幅最大的區域是額中央區。N1受刺激物理屬性的影響較大,隨著聲音刺激強度的增大,N1波幅增大,潛伏期縮短;隨著短音頻率的增高,Nl波幅會有所降低。N1對注意敏感,是早期的聽覺注意成分。在聽覺選擇注意的ERP研究中,注意耳的標準刺激相對于非注意耳的標準刺激產生顯著增強的N1,即“N1注意效應"。

圖3:聽覺N1的注意效應
03 失匹配負波MMN

失匹配負波(MMN)是指被試處于相同的標準刺激重復序列時,因偶然出現不匹配的偏差刺激時所觀察到的一種負波。MMN的出現通常發生在50ms的偏差刺激之內,峰值潛伏期在100-250ms之間,它在中央區的中線位置最大。由于偏差刺激出現的概率很小,且與標準刺激差異甚小,因此在由標準刺激和偏差刺激組成的一系列刺激中,偏差刺激時標準刺激的一種變化,所以MMN被稱為失匹配負波。

圖4:失匹配負波
02
早期視覺感覺反應
01 C1

通常起始于刺激后40-60ms,在80-100ms達到峰值。最大幅值出現在頭皮后部的中線電極位置,具有極性變化,來自V1區(初級視覺皮層),在距狀裂周圍。可通過上視野的刺激誘發負向C1波。C1反映初級視覺加工過程,對刺激的物理 屬性敏感,如對比度、亮度、空間頻率等

圖5:早期視覺C1反應
02 N1

視覺N1包含多個子成分。子成分1在刺激后100-150ms達到峰值,位于頭前部電極位置;子成分2在刺激后150-200ms達到峰值,來自頂葉皮層;子成分3在刺激后150-200ms達到峰值。N1 成分指示注意辨別過程。

03 N170與頂正波

頂正波(vertex positive potential,VPP)是面孔刺激與非面孔刺激的差異波,在150-200ms間達到峰值,位于中央區頭皮的中線部位。N170是指在右半球外側枕葉電極位置發現的,面孔刺激比非面孔刺激誘發更負的電位,約在170ms左右達到峰值。倒置面孔比正向面孔誘發更大的N170,稱為倒置效應或面孔特異性。

圖6:N170 ERP反應
03
選擇性注意N2家族ERP成分
N2a或稱MMN:N2a由聽覺失匹配條件下自動誘發的效應,刺激與任務無關時也會被誘發,這一效應通常被稱為失匹配負波。約100-200ms附近的負向波。

N2b或稱前部N2成分:異常刺激是與任務相關的,對于聽覺刺激,主要在中央區位置,視覺刺激在某些情況下也會誘發N2b成分。

N2c或稱后部N2成分:主要分布于頭皮后部區域,由任務相關的靶刺激誘發,很像P3波形,而且不常出現的靶刺激會誘發更大的N2c成分。

N2pc或稱對側負波:出現時間與N2c成分大致相同,出現在被注意物體的對側后部頭皮,反應了注意力集中的某個方面。N2pc是與視覺空間注意分配相關的僅有1個的ERP指標。 N2pc和注意的轉移無關,而是反映了注意轉移完成后的空間選擇 注意機制。同時,也可能反映了在靶刺激選擇加工之前,任務相關的靶刺激空間特異性加工。

圖7:N2pc 示意圖
04
認知決策分配P3家族ERP成分

P300是偏差刺激后300ms左右出現的正向波。由隨機出現在標準刺激中的小概率差異刺激引出,表示大腦對差異刺激的探測過程。P300起源于腦內廣泛結構,如海馬、顳上溝、前額葉腹外側、頂內溝,是ERP中研究量最大,應用非常廣的成分。實驗研究表明,P300的腦內源不止一處,這也說明它不是一個單純的成分,而是一個大家族,與多種認知加工有關。

P3a:額區最大,由意外而不經常的,即刺激中不可預測且出現概率較小的變化所誘發。

P3b:頂區最大,由意外而不經常的,即刺激中不可預測且出現概率較小的變化所誘發,但是該成分僅出現在這些刺激的變化與任務相關時,絕大多數研究者通常將P3b成分就用P3來指代。

圖8 P300示意圖
05
決策-反應相關的ERP成分

錯誤相關負波:(ERN,error-related negativty),由錯誤反應后的負反饋所誘發的。ERN通常被認為產生于前扣帶回的背側部分(dACC),但其實ERN的形成可能包含多個神經源的貢獻,它反映了反應監測系統的活動,該系統對預期和實際反應之間的沖突比較敏感,或者會產生反應依賴的情緒反應。

圖9 ERN示意圖
準備電位(RP,readiness potential):或稱BP(bereitschafts potential)。起始于一系列臨時手動反應之前(約1秒左右)的一個負向慢波,位于額葉和中央區,準備電位的頭部地形圖分布依賴于使用哪一個效應器進行反應,因身體兩側的差別而異,以及因同側身體使用不同的效應器而異。
圖10 RP示意圖

偏側化準備電位(LRP,lateralized readiness potential):一個在對側半球比在同側半球(相對于反應手而言)幅值更大的負波,與反應手之間具有側向化關系,而其他成分沒有,容易判斷實驗操作對LRP的時刻或振幅產生的影響。LRP至少有一部分產生于運動皮層

06
語言加工相關的ERP成分

N400:負向波形,在中央和頂區電極位置的波幅最大,而且右半球的振幅比左半球稍大。但是N400主要產生于左側顳葉,近期研究發現,左側前額葉對N400也有貢獻。典型的N400見于違反語義期待的反應。只有有意義的刺激可以誘發N400或者類似N400的活動。 

P600:由違反語法規則誘發,約在300-500ms的左側額葉負波。功能詞會在左前部電極位置誘發一個叫N280的成分,而實義詞沒有這個成分;相反,實義詞會誘發一個功能詞沒有的N400。

圖11 N400和P600示意圖

參考文獻

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Application of binaural beat phenomenon with aphasic patients, Arch Otolaryngol, 1977;103:192–194
Response characteristics of neurons in anteroventral and dorsal cochlear nuclei of cat, Brain Res, 1973;64:35–54, 
Auditory evoked potentials from the human midbrain: slow brain stem responses, Electroencephalography Clinical Neurophysiology, 1982;53:652–657, 
The N1 response and its applications, Audiol Neurootol, 1997;2:281–307, 

結語

本文中我們向您介紹了ERP的常見成分誘發方式、潛伏期、峰值以及想關聯的潛在的認知過程。

讀完本文,希望您對腦電ERP成分有了清晰的認知。

郵件聯系我們:kingfar@kingfar.net

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